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鍍層的光亮度影響變化

氯化鋅、氯化鈷氯化鋅是鍍液的主鹽，為鍍液提供原始鋅離子。熱浸鋅雖然在電渡中會逐漸減少，但因陽極鋅板的溶解而得到補充。
   氯化鋅濃度對鍍液的性能影響主要表現(xiàn)在：當氯化鋅濃度低時，電流開不大， 易造成鍍件的高電流區(qū)（邊角）燒焦，鍍層亮度不足，鍍液均鍍能力差，覆蓋能力也差。當氯化鋅濃度過高時，鍍層亮度雖足，但結(jié)晶較粗，鍍液的覆蓋能力變差，而均鍍能力增加，電流使用上限增加，即可以使用較大電流，生產(chǎn)效率高。
   對鍍層的影響不僅僅是結(jié)晶的粗和細，更重要的是對鍍層中鈷含量的影響。當熱浸鋅離子與鈷離子按一定比例變化金屬離子總濃度時，對合金成分影響不大，基本上穩(wěn)定在0.5%~0.6%之間。繪出了金屬離子總濃度變化（固定熱浸鋅鈷離子 質(zhì)量比為8:1時）對鍍層中鈷含量的影響關(guān)系。
    當鍍液中鋅鈷金屬離子總濃度控制在一定摩爾濃度下，改變熱浸鋅鈷離子的摩爾比，則會嚴重影響鍍層中鈷的含量。當熱浸鋅鈷總離子濃度為0. 8mol/L時，鋅鈷離子濃度之比例對鍍層中含鈷量的影響。
   pH在氯化物鍍鋅鈷合金溶液中pH 不僅影響到鍍液的穩(wěn)定，鍍層的光亮度，而且還會影響鍍層中鈷的含量變化。隨著鍍液pH的升高，鍍層中鈷含量 也相應升高，但升高的幅度并不大。從鍍液綜合性能考慮，鍍液的pH—般要控制在4.5 ~5.5之間，這時鍍層中鈷含量均在0.6%左右。